近日，成都渗源科技有限公司为西安晟光硅研半导体科技有限公司顺利完成渗源SYEL-200L中央纯水系统安装与调试。设备以200L/h级稳定纯水/超纯水能力，保障企业微射流激光（水导激光）设备运行及第三代半导体材料加工实验用水，从源头支撑6/8英寸碳化硅晶锭滚圆、切片、划片工艺的良率与表面质量。

晟光硅研是国内微射流激光设备核心供应商，其水导激光技术需将激光耦合进高速水射流实现碳化硅、氮化镓、氧化镓等硬脆材料低损伤加工——水束既是光导介质也是冷却冲刷介质，水质直接决定加工面亚表面损伤与碎屑再附着风险。同时实验室开展衬底清洗验证、设备光学通路冲洗及痕量金属本底核查，对水中电阻率、TOC、微粒数、重金属本底要求逼近电子级水标准：微量Na⁺/Fe³⁺会吸附晶面形成缺陷中心，TOC偏高致光刻胶附着力异常，≥0.1μm颗粒划伤切片侧壁。

针对半导体设备研发实验室水质达一级水、需连续恒压供水特点，SYEL-200L采用“预处理+反渗透+紫外”工艺，UP超纯水电阻率≥18.2 MΩ·cm@25℃，微生物≤1CFU/mL，微颗粒≤1个/ml，符合GB/T 6682-2008一级水参考指标。系统配PLC触控、在线电阻/电导双监测、变频循环管路，向激光耦合腔体与实验台分质供水。

此次合作是渗源在第三代半导体装备领域的又一典型案例。公司将继续以合规、智能的纯水方案，服务更多硬脆材料加工与半导体设备企业。