国产半导体芯片一直都无法成为半导体芯片的有力竞争者，庞大的进口芯片却成为了国外企业赚钱的有力途径，但在精密的芯片生产行业来看，中国依然有着不小的差距，没有技术与设备的支持，很难做到真正的国产。

生产半导体芯片必然需要使用超纯水设备，一台对水质净化比较好的设备能增加制造出来产品的稳定性，不单单性能优越，而且耐用性和残次率也大大的降低，这将是为企业生产成本降低的有效手段。

随着5G市场的突破，国人实现在信息行业的曲线超车，虽然一时间还是很难取得国际上大多数国家的支持，却也成为了实现一小部分的成功，这将是一个好的开端。国内的芯片制造工艺已经赢得了国际的认可，所以三星在华增投中国芯片工厂情理之中的事情。在半导体行业的生产过程中，使用超纯水对生产芯片进行去污早就是行业中公认的方式。随着生产芯片的存储数值的增加，对于去污水要求也在逐渐增加，特别对水质中金属离子的含量要求也在不断的增加，其中在16M的DRAM器件生产过程，对于去污超纯水中NA、K、CL、Cu、Fe、Zn、Cr、Mn等微量元素的的要求更低，这就对使用的超纯水设备工艺以及耗材更换品质要求极高。

半导体行业超纯水生产工艺：
 

预处理-加酸中和-反渗透-中间水箱-中间水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外灯-臭氧杀菌-用水点

在半导体行业的超纯水生产过程中，除了常规的水质净化工艺外，增加了酸中和使水质偏碱处理，这样能使水质更符合反渗透膜的处理要求，增加反渗透膜的使用时间，降低更换成本。除了使用常规的紫外灯杀菌外，另增加的臭氧杀菌能高效的去处水中一些难缠的微生物与细菌对半导体电子生产的影响。

半导体行业用超纯水设备特点：
 

1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。
 

2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。
 

3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出更高的溶质分离率和透过速率。

4、能耗低、水利用率高、运行成本低。
 

渗源半导体行业用超纯水设备性能设计中，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，除去了之前因为树脂再生而停止生产线运行，使用EDI电除盐能有效的降低水中的金属离子，超纯水装置结构设计相对靠紧，占地面积小，可以为企业节省很多空间。

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