超纯水的“超纯”不仅远超日常饮用水，更显著区别于医药行业的“纯化水”或实验室“去离子水”。其近乎“本征”的纯净度使其成为现代高精尖产业不可或缺的原材料。

核心指标包括：

1、电阻率：25℃下达到18.25 MΩ·cm（极限理论值），实际应用中要求≥18.0 MΩ·cm，表明其导电离子几乎被完全去除。

2、颗粒物控制：≤100个/L（要求每升水中，符合特定尺寸条件的颗粒物数量不能超过100个。对于特定尺寸如≥0.05 μm（直径0.05微米）的颗粒要求更高。

3、溶解氧：低至ppb级或更低。

4、微生物：<1 CFU/100mL（每100毫升样品中微生物少于1个真菌计量的单位：CFU）或趋向于“零”（零微生物）。

5、特定离子浓度：如硅、钠、氯离子、硫酸根等被控制在极低ppb或ppt（万亿分之一）级。

其关键应用领域便是半导体与集成电路制造中的晶圆清洗：超纯水必须在数十甚至数百次清洗中去除细微颗粒、金属离子、有机残留等污染物，避免导致线路短路、断路或影响器件性能。

其次便是平板显示行业：用于TFT-LCD、OLED玻璃基板的清洗与蚀刻工艺。屏幕越大，缺陷容忍度越低，对超纯水的洁净度要求越高，对颗粒尤其是纳米级颗粒、TOC、金属离子的控制极其严格。